Beamnrc 中粒子追踪LATCH和剂量计算设置方法

zhuer91

关于LATCH（Beamnrc Users Manual 92页）

1  LATCH是描述每一个粒子特性的一个32位(bit)的变量，对于每一位描述什么问题，请参考Beamnrc Users Manual 92页。

2  在输入文件描述几何结构材料性质的时候，可以定义一个有几何结构区域到bit的映射(bit 1-23)，在定义几何模块的Associate with LATCH bit处定义（此处还有一个Dose zone 为0则不记录剂量，为1则输出本模块几何体的剂量到文件中）。比如94页的Figure 18，每一个材料或者区域，你都可以定义其对应的bit。第一个定义为1、第二个定义为2，第三个定义为3，以此类推。当然，你可以定义第一个为2，第二个为1，根据你的需要。你也可以定义某种材料的几何体全部为1，另外一种全部为2，等等。
只要记住，bit1-23是几何区域对bit的映射，你自己定义。对于某一个几何体，这个变量就是IREGION_To_Bit。如果在输入文件中你把某一个区域（几何体）的IREGION_To_Bit变量位置替换为4，那么这个区域的bit就是4了。

3  在beamnrc的主输入界面中（Main Inputs），有一个LATCH option选项，选择粒子在模拟过程中，二次粒子的bit是否继承其初始粒子的bit。1为不继承；2为根据粒子通过区域（set by passage）继承；3对于光子来讲，通过相互作用区域（set by interations）来继承，而不仅仅是曾经通过区域。到此可以好好理解Figure 18和Table 1了。

关于剂量计算有2中方法 （Beamnrc Users Manual 95页）

1  第一种是通过定义污染粒子的种类和及其进入的CM（几何结构模块），Main Inputs->Dose calculation中前2个选项，就是ICM_CONTAM和IQ_CONTAM两个变量的输入值位置。

2  第二种是通过定义bit过滤来设定对那些粒子进行能量沉积计算，可以通过排除法和包含法两种来定义bit过滤方式。其中LNEXC为要排除bit的个数，LATCH Number of Exclude；L_N_EXC 就是你通过Main Inputs->Dose calculation 第三个行的>>按钮选择的那些bit。LNINC 为要包括的bit的个数，LATCh Number of Include；L-N_INC就是第四行选择内容。

3  第一种方便，只要选在粒子种类和你需要从哪里开始计算的CM就可以了。第二种灵活，可以有很多种组合计算方法。


问：

剂量计算中的两种方法同时使用，还是单独使用。同时使用时，L_N_EXC、L_N_INC 的个数是根据什么设置的？它的个数与Associate with LATCH bit中bit定义的区域数（1，2，3。。。etc.）有关系吗？  还有就是里面的latch bit的选择是根据什么设置的？那个bit包括那个不包括是由什么决定的。

答：

我只是单独使用。我想应该可以组合使用。

个数是你自己的要求罢了。看你自己要求计算那些粒子的能量沉积了。怎样设置，请看附件。自己多尝试，就明白了。最好把说明书92~96页自己翻译，根据实际程序设置一遍，就会了。

另外，学习beamnrc根据需要学习，有需求了，才能懂怎样设置。
如果你不知道要什么，当然看不懂别人的程序例子啦。这些都是物理问题，不属于程序问题了。





转自52MC论坛